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流速的影響 (ODP2 HP)

更新時(shí)間：2023-08-15      點(diǎn)擊次數(shù)：1280
 使用聚合物反相柱ODP2 HP 4D (4.6 mm I.D. x 150 mm L)時(shí)流速與理論塔板數(shù)的關(guān)系以及流速與保留時(shí)間的關(guān)系如下。每種樣品均顯示為流速0.3 mL/min時(shí)理論塔板數(shù)最高，當(dāng)流速低于0.3mL/min時(shí)由于樣品擴(kuò)散柱效降低。另外，流速低于0.5 mL/min時(shí)各樣品的保留時(shí)間長(zhǎng)。因此使用ODP2 HP-4D時(shí)推薦標(biāo)準(zhǔn)使用流速為0.5 – 1.0 mL/min。 ODP2 HP-2D (2 mm I.D. x 150 mm L)的標(biāo)準(zhǔn)使用流速為0.1 – 0.2 mL/min。


Sample : 5 μL
Phenol 300 ppm
Methyl bezoate 350 ppm
Toluene 1000 ppm
* Ratio of TPN [%] : TPN at a flow rate of 0.5mL/min is set as 100%.


Column       : Shodex ODP2 HP-4D (4.6 mm I.D. x 150 mm)
Eluent       : H2O/CH3CN=55/45
Detector     : UV (254 nm)
Column temp. : 40 ℃
 

地址：上海市靜安區(qū)新閘路668號(hào)19樓

郵箱：Shodex_sales_cn@resonac.com

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